CMP过滤

“兵家必争”的CMP工艺中，对硅晶圆或其它衬底材料平坦化处理，需要把大颗粒径的产品过滤，保留有效工作的颗粒进行研磨，达到最优化的流体动力学状态。杭州大立的滤芯有优异的颗粒截留性能，提高客户的生产成本效益。

光刻工艺

随着加工线宽的精细化要求，对于产品的洁净控制越来越严苛，各种污染物，金属离子的析出要求对滤芯的生产提出了更高的要求。大立过滤结合实际，为工艺的升级提供高洁净度的产品，确保产品的质量。

厂务系统

厂务系统需要为整个FAB稳定地提供洁净化学品、超纯水以及洁净工艺气体。这就对各段使用滤芯的稳定性及一致性过滤效果提出了高要求。杭州大立的大流量滤芯、保安滤芯、高精度折叠滤芯以及全氟滤芯产品系列，为厂务系统提供稳定过滤的服务。

制程工艺

平板显示制造过程中，过滤产品的性能直接影响成品的质量以及良率，尤其在高世代线中，过滤产品的问题会造成大批量的报废和损失。杭州大立过滤针对各段工艺的要求为客户提供稳定可靠的产品，分析解决各制程问题，优化产品，降低成本。

动力系统

动力系统需要长时间不间断地工作，为高世代平板显示制造提供洁净化学品、超纯水以及洁净的工艺气体，这就对过滤的稳定性提出了很高要求。杭州大立的过滤产品为平板显示制造动力系统平稳运行提供可靠的保障。

电子化学品

洁净电子化学品作为半导体生产制造的关键材料，在半导体的生产过程中起着关键的作用，各种不同特性的电子化学品对过滤产品的要求各有不同，对过滤产品的洁净度，低析出有着严苛的要求。大立公司使用先进的设备及工艺，对过滤产品进行严格的洁净度的管控，生产低析出，低金属离子产品。

数据存储

数字信息时代，存储介质由纸质载体发展到硬盘、闪存、U盘、SD卡等多种新型载体存储介质。为了制造便携式、大容量数据存储产品，设备和工艺有赖于各部工序的污染控制和过滤纯化技术。杭州大立开发生产各种先进的过滤产品和相关技术，满足客户个性化的工艺和需求。